「STi 静電反発高透過ガラス」の機能表面膜の特性
「STi 静電反発高透過ガラス」の高透過技術は太陽光の発電装置のフェイスガラス表面のみならず、光の高透過性を利用する各種光学素子に利用できる造膜用中性水分散チタニア液です。
高透過性を発現する技術的なポイントは、基板の反射率を低減し、造膜内で新たな光の自然放出を発現させる構造を有しています。
特に、外部や機器内で使用する装置での継続的な光の透過率の維持に必要な「高透過率」「表面防汚性」「超親水」の機能を備えた世界初の技術です。
- 組成分
- 酸化チタン（アモルファス型、アナターゼ型）、シリカ、導電性酸化金属など
- 膜厚
- 100nm ～ 300nm
- 表面電荷
- 正電荷もしくは両性電荷
- 高透過波長領域
- 400nm ～ 1,200nm
組成分配合などによって、そのピークバンド幅領域を変更可能です。
- 可視光透過率（780nm ～ 380nm）
- +3 ～ 5%
- 防汚性
- 表面正電荷、または両性電荷による汚染物との静電反発および、超親水（水接触角 5° 以下）により自然清浄化（光触媒機能は発現しません）
高温タイプ（300°C 以上～ 700°C 未満）
低温タイプ（常温～ 200°C 未満）
太陽電池フェイスガラス高透過性能
可視光透過率・反射率測定（ガラス基板片面造膜例）
